別名：四氟甲烷、Freon-14、R 14、全氟甲烷
化學式：CF4
CAS：75-73-0
外觀：無色、無臭、不燃的易壓縮性氣體
應用：用于各種集成電路的等離子刻蝕工藝，也用作激光氣體及制冷劑
產地：四川
品牌：宏錦化工
純度：99.999%
包裝：47L
氣體含量：30公斤
服務：可按客戶需求配置其他鋼瓶包裝
銷售及配送范圍：全國

性質與穩定性
常溫常壓下穩定，避免強氧化劑、易燃或可燃物。不燃氣體，遇高熱后容器內壓增大，有開裂、爆炸危險?；瘜W性質穩定，不燃。常溫下只有液氨-金屬鈉試劑能發生作用。

操作注意事項
密閉操作，全面通風。操作人員必須經過專門培訓，嚴格遵守操作規程。遠離易燃、可燃物。防止氣體泄漏到工作場所空氣中。避免與氧化劑接觸。搬運時輕裝輕卸，防止鋼瓶及附件破損。配備泄漏應急處理設備。

儲存注意事項
儲存于陰涼、通風的不燃氣體專用庫房。遠離火種、熱源。庫溫不宜超過30℃。應與易（可）燃物、氧化劑分開存放，切忌混儲。儲區應備有泄漏應急處理設備。

運輸注意事項
采用鋼瓶運輸時必須戴好鋼瓶上的安全帽、鋼瓶一般平放，并應將瓶口朝同一方向，不可交叉;高度不得超過車輛的防護欄板，并用三角木墊卡牢、防止滾動。嚴禁與易燃物或可燃物、氧化劑等混裝混運。夏季應早晚運輸，防止日光曝曬。鐵路運輸時要禁止溜放。

用途
1.用于各種集成電路的等離子刻蝕工藝，也用作激光氣體，用于低溫制冷劑、溶劑、潤滑劑、絕緣材料、紅外檢波管的冷卻劑。
2.是微電子工業中用量最大的等離子蝕刻氣體，四氟甲烷高純氣及四氟甲烷高純氣、高純氧的混合氣，可廣泛應用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻，在電子器件表面清洗、太陽能電池生產、激光技術、低溫制冷、泄漏檢驗、印刷電路生產中的去污劑等方面也大量使用。
3.用作低溫制冷劑及集成電路的等離子干法蝕刻技術。